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第279章 这会不会太伤他自尊了（第4页）

托尼诺被这个答案彻底震住，这一刻脑海中除了问号似乎再没其他内容。

口中重复着这句话渐渐失神。

回想起自己在阿斯麦研究光刻机投入的心血，以及公司消耗的时间和资金，眼下和徐昀一比竟突然显得是如此不堪愚蠢。

别人一年多就能解决的项目，他们却要消耗数倍的时间。

以往拥有的骄傲瞬间被击的粉碎。

关键徐昀接手此项目这么短时间，便让光刻机的工艺实现大跨步，直接可以制造7纳米规格的芯片。

如此速度实现5纳米甚至3纳米，就显得不值一提。

可以想象等这台光刻机正式交付后，等消息传播开来会给半导体领域带来怎样的影响。

“类似电池行业那样的大变革吗？”

思维运转到这里，托尼诺暗自想着心里有些五味杂陈后悔跑这一趟。

而正当他彻底失去兴趣，想要尽快回公司向首席执行官彼得温汇报时，耳旁却又响起罗长辉的声音。

“今天芯片的测试数据出来了没有，瑕疵率多少？”

坐在主控系统前的值班人员虽然不知道罗长辉为什么突然当着众人的面询问这个，但出于自身的职责所在还是立刻汇报了结果。

“报告所长，瑕疵率和前几天基本相等，依旧在百分之二以下。”

此话一出。

其他人神情淡然。

托尼诺差点惊掉了下巴。

“什么？”

“百分之二？”

顾不上自己的形象，立刻惊呼两声。

没有人比他更清楚这个数字代表的意义，哪怕是作为全球顶尖半导体设备公司的阿斯麦，也无法保证芯片的瑕疵率低于百分之二。

众所周知每批制造出来的芯片，都肯定会有不符合标准的瑕疵芯片。

这些都需要剔除出来，算作晶圆厂的成本。

要想降低芯片的瑕疵率，自然是要从光刻机性能和重要的光刻胶上入手。

基本越是成熟的工艺，瑕疵率越低。

比如制造14纳米规格的芯片，肯定要比7纳米的瑕疵率低的多。

阿斯麦在光刻机领域深耕多年，眼下正朝着3纳米芯片工艺展开研究。

却也只能将芯片的瑕疵率维持在百分之五。

徐昀依靠自身的天赋和实力，带领项目团队在短短不到两年的时间内研发出7纳米工艺光刻机，这确实非常惊人惊讶难以相信。

可这毕竟是一台刚组装的光刻机。

想尽可能降低芯片的瑕疵率，势必需要对光刻机进行长时间的调试。

在这个环节中，光刻胶能起到的效果也是有限的。

正常情况下这台光刻机想保持百分之五的瑕疵率都是难如登天。

更不用说连百分之二都不到。

或许对于这台光刻机的工艺他刚才判断错误，但他绝不相信会有这么低的瑕疵率。

念头停留在这里，他眼神中都有了些光芒，直接把矛头对准徐昀。

当场表达自己的看法。